產品介紹

離子源是采用離子技術輔助鍍膜、刻蝕等高端設備的重要部件，其中柵網是離子源中直接影響均勻性和致密性的重要易耗性配件，它決定了帶電離子的密度、運動方向、加速度等，直接影響相應工序的產品質量。

 產品特點

 我公司生產離子源（Ion source）柵極組件主要應用于離子刻蝕/沉積設備（IBE/IBD），柵網為三片一套的鉬柵極(Mo Grid)，依次分別為Beam Grid、Suppressor Grid、Ground Grid，經過專業特殊的表面加工及精密鉆孔加工。為了保證離子束的均勻性，通過精確測量和高精度數值模擬相結合，在柵網精確開孔、角度分布等方面開展技術攻關，保證了離子束的均勻性。另外為了保證產品的穩定性和耐用性，我司精選高檔進口原材料，加工中經過超高溫等獨有應力成型技術處理，經過多道拋光定型噴砂完成，經久耐用。

競爭優勢

1.高檔進口材料99.9999%以上

2.專業特殊的加工工藝及超高溫等獨有的應力成型技術處理；

3.行業資深專家團隊，品質有保障

4.優質的產品，安心的服務